檢索結果:共4筆資料 檢索策略: "技術".ckeyword (精準) and cadvisor.raw="方劭云"
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自動對準雙圖案微影技術(self-aligned double patterning lithography)是目前20奈米以下的主要微影技術之一,在微影技術的發展下,尺寸微小化使得雙圖案微影技術的…
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在現代的科技蓬勃發展下,半導體製造進入了次10 奈米的技術節點,關鍵尺寸的微小化使得下一世代微影技術被迫切地需要,其中,團鏈共聚物定向自組裝微影技術已經證明其用於製作導通孔的可能性。除此之外,後佈局…
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由於下一代微影技術的延遲,對於現今10 奈米的製程節點,多 圖樣微影技術仍然是突破微影極限的主要方案。在本篇論文中,我們 提出一個保證連通層可分解性之三圖樣微影感知的細部繞線器。在此 研究中,繞線器…